光刻膠HMDS烘箱 HMDS疏水處理烘箱應用多晶硅,石英,太陽能電池片、金屬、貴金屬、藍寶石、SiC(碳化硅)、磷化銦、GaN(氮化鎵)、ZnO(氧化鋅)、GaO(氧化鎵)、金剛石等第三代半導體材料。
光刻膠HMDS烘箱 HMDS疏水處理烘箱研發背景
集成電路光刻工藝中常使用HMDS對晶圓襯底進行黏附處理,來提高光刻膠與襯底的黏附性,HMDS中文名六甲基二硅氮烷(Si(CH3)3)2NH,行業所要求純度大于99.7%。
HMDS黏附機 HMDS烘箱 HMDS疏水處理烘箱作用
襯底在空氣中易形成厚度為幾個原子層的二氧化硅薄膜,由于其具有親水性,會吸附空氣中的水分到襯底表面。光刻膠涂層多為有機疏水材料,這就造成了光刻膠與襯底黏附性差。在實際生產中,常將HMDS霧化,并在特定的溫度和壓力條件下處理,來改變晶圓表面的親水性。其原理可以簡述為HMDS中的有機基團取代晶圓表面水分子羥基,使晶圓表面由親水性變為疏水性。
光刻膠HMDS烘箱 HMDS疏水處理烘箱實用性
在光刻中,光刻膠的黏附效果受到光刻涂層,襯底材料,以及光刻工藝三方面的影響。HMDS的黏附處理不只是對硅基襯底有效。也用于其他襯底,諸如多晶硅,石英,太陽能電池片、金屬、貴金屬、藍寶石、SiC(碳化硅)、磷化銦、GaN(氮化鎵)、ZnO(氧化鋅)、GaO(氧化鎵)、金剛石等第三代半導體材料。
HMDS烘箱兼容2~12寸晶圓及碎片、方片等。
設備名稱:HMDS烘箱
設備型號: JS-HMDS90
內腔尺寸:450×450×450、350×350×350(mm)可定制
材質:外箱采用優質冷軋板噴塑、304不銹鋼,內箱采用316L醫用級不銹鋼
工藝溫度:110-160℃
真空度:≤1torr
工藝運行:自動運行